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  国家知识产权局信息数据显现，恩特格里斯公司请求一项名为“用于高度掺杂硼的硅膜的根据钛氧化物的化学机械抛光组合物”的专利，公开号CN122003477A，请求日期为2024年8月。

  专利摘要显现，本发明供给一种化学机械抛光组合物，其包括：(a)钛氧化物研磨剂；(b)氧化剂；和(c)水，其间所述化学机械抛光组合物具有约7或更小的pH。本发明还供给一种运用所述组合物化学机械抛光衬底的办法，所述衬底尤其是包括衬底表面上的掺杂硼的多晶硅层的衬底。

  声明：商场有危险，出资需谨慎。本文为AI根据第三方数据生成，仅供参考，不构成个人出资主张。